|
Предсказан и экспериментально зарегистрирован эффект управляемого пиннинга контролируемо зарождаемой доменной стенки в системе ферромагнитная нанопроволока — ферромагнитные наночастицы, обусловленный взаимодействием доменной стенки с полями рассеяния наночастиц. Наночастицы расположены с обеих сторон от нанопроволоки так, что длинная ось частиц перпендикулярна оси нанопроволоки. На основе этого эффекта предложен прототип магнитной логической ячейки, реализующей функцию «Исключающее ИЛИ».
В. Л. Миронов
В. Л. Миронов,
Проведены исследования контролируемого пиннинга доменной стенки в планарной ферромагнитной системе нанопроволока-наночастицы, обусловленного взаимодействием доменной стенки с полями рассеяния наночастиц. Намагниченная нанопроволока имела на одном конце расширение в виде круглого диска, предназначенное для контролируемого зарождения магнитного домена с противоположной ориентацией. Частицы были расположены с обеих сторон от нанопроволоки так, что длинная ось частиц была перпендикулярна оси нанопроволоки. Перемагничивание в таких системах происходит посредством зарождения доменной стенки в затравочной части и ее движения к свободному концу. Показано, что в зависимости от конфигурации магнитных моментов частиц в такой системе возможны несколько вариантов пиннинга доменной стенки. В случае, когда магнитные моменты наночастиц направлены противоположно, происходит сильный пиннинг доменной стенки с энергией депиннинга на уровне сотен эВ. В случае, когда моменты наночастиц сонаправлены, в системе реализуется слабый пиннинг с энергией депиннинга на уровне десятков эВ. Теоретически и экспериментально показано, что на основе данной системы можно реализовать магнитную логическую ячейку, выполняющую логическую операцию «Исключающее ИЛИ».
Для создания стендов нанолитографии следующего поколения с пространственным разрешением до 8 нм предложены многослойные зеркала на основе La/B (La/B4C) для спектральной области вблизи 6.7 нм. Синтезированы La/B4C/C зеркала нормального падения со сверхтонкими углеродными барьерными слоями с рекордным коэффициентом отражения 58.6%, что позволяет начать разработку многозеркальных схем нанолитографов с рабочей длиной волны излучения 6.7 нм.
Н. Н. Салащенко
Н. Н. Салащенко,
S. Künstner, F. Schäfers — Institute for Nanometre Optics and Technology, HZB-BESSY-II, Берлин, Германия
Создана технология нанесения La/B4C/C многослойных зеркал с рекордными, до 59%, коэффициентами отражения при нормальном падении на длине волны 6.7 нм. Показан позитивный эффект применения антидиффузионных барьерных слоев из сверхтонких пленок углерода, что в целом указывает на перспективы этого способа повышения оптического контраста на границах La/B4C многослойных структур и побуждает к поиску других материалов барьерных слоев. Следующим шагом, который должен привести к заметному увеличению коэффициентов отражения La/B4C зеркал, является использование совместно с антидиффузионными слоями операции полировки поверхности любого выбранного свеженанесенного слоя низкоэнергетичными ионами («ионная полировка»). Травление пленки ионами, во-первых, убирает с поверхности растущей пленки более рыхлый слой, способствующий взаимодиффузии материалов, а во-вторых, как можно предполагать, может уменьшить шероховатость поверхности и, соответственно, увеличить оптический контраст межслоевых границах. Для этих целей в ИФМ РАН создана установка, оснащенная 4-мя магнетронными распылителями и 4-мя ионными источниками, два из которых обеспечивают травление растущей пленки низкоэнергетическими ионами Ar+, а два других предназначены для ионного распыления мишеней, альтернативного магнетронному распылению. Предварительные эксперименты показали, что использование «ионной полировки» увеличило коэффициенты отражения La/B4C зеркал на длине волны λ = 6.7 нм на несколько процентов.
Также мы надеемся увеличить коэффициенты отражения зеркал за счет замены карбида бора чистым бором или его соединением с большим содержанием бора, например, B9C.
Таким образом, после многолетней стагнации результатов по La/B4С наметился заметный прорыв в части повышения коэффициентов отражения зеркал, что позволяет с оптимизмом смотреть на возможность достижения высоких, 60−70%, коэффициентов отражения и выполнить требования к многослойным зеркалам для нанолитографии следующего поколения с рабочей длиной волны в окрестности 6.7 нм.
Предложен и впервые реализован метод селективного легирования кремниевых эпитаксиальных структур донорными примесями в процессе молекулярно-пучковой эпитаксии, основанный на использовании явления сегрегации, контролируемой температурой роста. Получены рекордные по параметрам дельта-слои, легированные сурьмой, в которых изменение на порядок концентрации примеси достигается на масштабах в единицы нанометров. Подобные структуры актуальны для приемников миллиметрового диапазона на основе диодов Шоттки.
А.В. Новиков,
Сегрегация основных донорных примесей (мышьяка, сурьмы и фосфора) в кремнии значительно осложняет получение необходимых для многих приборных приложений селективно легированных областей толщинами от единиц (т.н. δ-легированных слоев) до нескольких сотен нанометров. В работе предложен оригинальный метод селективного легирования кремниевых структур в процессе их молекулярно-пучковой эпитаксии. Метод основан на контролируемом использовании сегрегации примеси, а именно резкой температурной зависимости коэффициента сегрегации примеси при переходе от режима равновесной сегрегации к режиму кинетически ограниченной сегрегации.
Предлагаемый метод экспериментально реализован на примере сурьмы (Sb), наиболее часто используемой донорной примеси в процессе в МПЭ кремниевых структур. Согласно литературным данным и проведенным экспериментальным исследованиям коэффициент сегрегации Sb в кремнии в интервале температур роста 300С-550С меняется почти на пять порядков величины, при этом при температуре роста 300С-350С в объем растущей пленки встравается один из 100 атомов примеси, находящихся на поверхности, а при 500−550ºС — только один из 105-106. В развиваемом методе селективного легирования кремния для создания сильно легированных областей используются температуры роста 300−370ºС с предварительным осаждением на поверхность атомов Sb в количестве, необходимом, с учетом коэффициента ее сегрегации, для создания заданной объемной концентрации примеси. Такое предосаждение позволяет получить резкий профиль нарастания концентрации примеси. Для поддержания постоянной объемной концентрации примеси при росте легированных слоев на поверхность совместно с Si подается поток Sb, необходимый для сохранения постоянной концентрации атомов примеси на поверхности роста. Для создания резкой границы между слоями с высокой и низкой объемными концентрациями примеси используется остановка роста с повышением температуры до 500−550ºС. Несмотря на высокую концентрацию атомов примеси на поверхности роста, оставшихся после формирования легированного слоя, из-за очень большого значения коэффициента сегрегации Sb ее объемная концентрация в Si слоях, формируемых в данном диапазоне температур роста, мала. При формировании Si: Sb структур, содержащих несколько слоев с различным уровнем легирования, описанные выше шаги повторяются необходимое число раз.
Проведенные исследования сегрегационных свойств Sb в Si от температуры роста позволили, как моделировать распределение Sb в растущих пленках в зависимости от условий роста, так и определять параметры роста (температуру роста, поток атомов Sb из источника), необходимые для получения заданных профилей распределения примеси. Экспериментально продемонстрировано, что предлагаемый метод легирования позволяет в диапазоне концентраций 1016 см-3 — 1020 см-3 получать в кремнии легированные слои с резким распределением Sb, изменение на порядок концентрации примеси в которых происходит на масштабах в единицы нанометров. Параметры (размер легированной области, градиент концентрации примеси) дельта-легированных Si: Sb слоев, сформированных с использованием развитого метода, соответствуют лучшим значениям, приведенным в литературе. Показано, что формирование легированных областей с помощью предложенной методики не приводит к ухудшению структурных и электрических свойств структур.
Предложенный метод селективного легирования кремния донорными примесями использован для роста Si: Sb структур с тонкими, приповерхностными, сильнолегированными слоями с целью создания на их основе диодов Шоттки с пониженной эффективной высотой барьера за счёт доминирующей роли туннельной компоненты тока… Отработана методика удаления с поверхности Si слоев нанометровой толщины, позволяющая за счет уменьшения толщины легированного слоя контролируемо изменять высоту барьера Шоттки от 0 эВ (омический контакт) до 0.6 эВ. Совместное использование развитого метода селективного легирования кремния и методики прецизионного удаления поверхностных слоев позволяет получать диоды Шоттки с высотой барьера 0.25−0.35 эВ, необходимые для создания приемников миллиметрового диапазона.
Развита технология создания ферромагнитных наночастиц, состоящих из сверхтонких слоев ферромагнитных металлов, разделенных туннельно-прозрачными диэлектриком. В нулевом внешнем магнитном поле многослойная частица, обладающая анизотропией типа «легкая плоскость» и содержащая три ферромагнитных слоя, находится в неколлинеарном состоянии. Анизотропия формы частицы приводит к существованию устойчивых коллинеарных состояний, различающихся величиной сопротивления, что актуально для устройств хранения и обработки информации.
С.Н. Вдовичев,
Связь спиновых и орбитальных степеней свободы в твердых телах является предметом активного изучения в последние годы. Эта связь может быть обусловлена либо релятивистским спин-орбитальным взаимодействием, либо обменным взаимодействием. В последнем случае необходимо, чтобы распределение намагниченности в образце было неколлинеарным. Этим объясняется особый интерес к созданию и изучению проводящих ферромагнетиков с неколлинеарной структурой. Ранее нами было показано [1], что многослойная ферромагнитная частица, состоящая из трех ферромагнитных слоев, разделенных «немагнитными» прослойками обладает неколлинеарным спиральным основным состоянием. Недавно мы расширили представления об условиях существования неколлинеарных магнитных состояний в цепочках однодоменных магнитных частиц [2].
В рамках данной работы мы экспериментально исследовали такие состояния в цепочке, состоящей из двух туннельных магнитных контактов по зависимости сопротивления системы от внешнего магнитного поля. Возможность изучения магнитных состояний основана на хорошо известной зависимости сопротивления магнитного туннельного контакта от угла между магнитными моментами ферромагнитных слоев. При этом были решены достаточно сложные технические задачи изготовления многослойных наночастиц и измерения их магнитоспротивления при протекании тока перпендикулярно слоям. Нам удалосьпоказать, что в нулевом внешнем поле многослойная частица с диаметром 200 нм, обладающая анизотропией типа «легкая плоскость» и содержащая три ферромагнитных слоя, находится в неколлинеарном состоянии. Этот результат открывает дополнительные возможности для изучения процессов спиновой аккумуляции [3], перемагничивания спин-поляризованным током [4], нелинейных спин-зависимых транспортных явлений [5, 6] и эффектов близости в структурах ферромагнетик /сверхпроводник [7]. Также нами установлено, что анизотропия формы многослойной частицы приводит к существованию устойчивых коллинеарных состояний, различающихся величиной сопротивления. Это делает такие системы перспективными для использования в устройствах хранения и обработки информации.
Разработана технология изготовления свободно висящих многослойных интерференционных структур, на базе которых созданы фазовращатели и четверть-волновые пластинки для спектральной области 1.5−4.5 нм, цилиндрические дисперсионные элементы и радиационно-стойкие абсорбционные фильтры с характеристиками, существенно превышающими мировые аналоги. Эти элементы нашли применения в России и за рубежом для диагностики плазмы, в исследованиях на синхротронах, в астрофизике и проекционной нанолитографии.
А. Я. Лопатин,
Разработанная методика формирования свободновисящих пленок сочетает возможности магнетронного способа нанесения многослойной структуры на гладкую подложку и ряда технологических приемов, обеспечивающих сохранение оптических параметров и механической прочности структуры при переносе с подложки на опорную рамку. Она позволяет синтезировать многослойные композиции с широким набором заданных характеристик, необходимых для создания рентгенооптических элементов с новыми свойствами. Получены свободновисящие периодические структуры с малой шероховатостью межслойных границ (s ≈ 0.3 нм), не уступающие по отражательным характеристикам зеркалам на полированных подложках и способные работать как на пропускание, так и на отражение. Продемонстрированы образцы ультратонких (толщиной 25−50 нм) свободновисящих многослойных пленок большого размера (80−160 мм), достаточно прочных для практического использования в качестве абсорбционных фильтров.
Методика использована при изготовлении многослойных тонкопленочных фазовращателей на пропускание, предназначенных для измерений состояния поляризации синхротронного излучения. Разработаны и исследованы короткопериодные фазовращатели на диапазон 1.5−4.5 нм. Впервые в данном диапазоне изготовлен аналог оптической четвертьволновой пластинки: структура Cr/Sc с периодом d = 3.2 нм и числом периодов N = 300 обеспечивает на длине волны λ = 3.1 нм сдвиг фаз между s- и p-поляризованными компонентами излучения D = 90° при пропускании обеих поляризаций, близком к 0.4%. Многослойные тонкие пленки W/B4C с малым периодом (d ~ 1.5 нм) предложено использовать в качестве широкополосных фазовращателей для области длин волн l = 1 — 2 нм, изготовлены образцы таких структур.
Приемы методики получения многослойных свободновисящих пленок применены при создании фокусирующих зеркальных дисперсионных элементов светосильного спектрометра. Цилиндрическое рентгеновское зеркало выполнено в виде многослойной структуры, перенесенной на плоскую поверхность тонкой пластинки слюды с последующим изгибом на радиус 20 мм. Исследованы спектральные характеристики многослойных зеркал на основе структур Cr/Sc, Cr/C и Zr/Si, предназначенных для работы в недоступном для естественных кристаллов диапазоне от 3 до 15 нм.
Разработаны тонкопленочные абсорбционные фильтры на основе Cr/Sc, Mo/C, Zr/Al, Al/Si, молибдена, циркония и их силицидов, и других многослойных структур с окнами прозрачности в различных участках диапазона 2−60 нм, предназначенные для спектральной диагностики источников МР и ЭУФ излучения. Al/Si пленочные структуры повышенной прочности применены в качестве входных фильтров в телескопах орбитальной станции КОРОНОС-ФОТОН, разработанных в ФИАНе.
Для применения в стендах проекционной нанолитографии на длине волны 13.5 нм на основе новых многослойных композиций разработана технология изготовления термостойких свободновисящих абсорбционных фильтров с рекордными характеристиками (апертура 160 мм, толщина 50 нм и пропускание ≥ 70%). Тестовые испытания свободновисящих многослойных структур Mo/ZrSi2 позволяют прогнозировать возможность долговременной работы фильтра в условиях нагрева излучением до 850 °C в среде остаточных газов кислорода, воды и водорода.
В гетероструктурах с квантовыми ямами на основе HgTe/CdTe с инвертированной зонной структурой (двумерные топологические изоляторы) методом циклотронного резонанса выявлен близкий к линейному характер закона дисперсии электронов. Минимальная измеренная масса на дне зоны — 0.003 массы свободного электрона. Циклотронная масса возрастает при увеличении ширины квантовой ямы. В асимметричной квантовой яме обнаружено гигантское (30 мэВ) спиновое расщепление Рашбы по расщеплению линии ЦР.
А.В. Иконников,
С.А. Дворецкий,
Спектры циклотронного резонанса в узкозонном образце, измеренные с помощью квантового каскадного лазера на частоте 2.6 ТГц при последовательном увеличении концентрации электронов. |
Гетероструктуры с квантовыми ямами на основе HgTe/CdTe обладают целым рядом уникальных свойств, что в последние годы привлекает большой интерес многих исследовательских групп. При толщине квантовой ямы равной критической (dc ~ 6.3 нм для квантовой ямы из чистого HgTe) в структуре реализуется линейный закон дисперсии, соответствующий двумерным безмассовым дираковским фермионам. При толщине квантовой ямы больше критической закон зонная структура становится инвертированной и система становится двумерным топологическим изолятором. Большая величина спин-орбитального взаимодействия приводит в случае инвертированной зонной структуры, когда нижняя подзона в зоне проводимости сформирована состояниями p-типа, к существенно (на порядок большему) расщеплению Рашбы при наличии встроенного электрического поля по сравнению с нормальной зонной структурой.
В работе впервые измерены спектры циклотронного резонанса структурах на основе HgTe/CdTe с толщиной квантовой ямы близкой к критической и очень малой концентрацией 2D электронов (от 6*109 см-2 до 3*1010 см-2) в квантующих магнитных полях и обнаружены линии поглощения между нижними уровнями Ландау (см. рис.), положение которых практически соответствует линейному закону дисперсии (безмассовому дираковскому фермиону). Впервые продемонстрировано, что в структурах с инвертированным зонным спектром величина циклотронной массы возрастает с увеличением ширины квантовой ямы. В структуре со встроенным электрическим полем (одностороннее селективное легирование барьера) обнаружено сильное (свыше 10%) расщепление линии циклотронного резонанса в классических магнитных полях, соответствующее гигантскому расщеплению Рашбы порядка 30 мэВ.
Изучен механизм взаимной синхронизации в массивах джозефсоновских контактов. С использованием открытого резонатора Фабри-Перо наблюдено когерентное излучение из больших массивов ниобиевых джозефсоновских контактов с рекордно высокой эффективностью 2% на частотах 70−80 ГГц. Диэлектрическая подложка, на которой расположена сверхпроводниковая схема, играет роль диэлектрического резонатора, обеспечивающего синхронизацию собственного излучения контактов.
В. В. Курин
А. М. Клушин,
(Совместно с Nankai University, Public Republic of China, Institute of Planetary Research, Germany, Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Braunschweig, Germany)
Создан комплекс для изготовления и аттестации оптических элементов со среднеквадратичным отклонением формы поверхности от заданной менее, чем 1 нм и оптических систем с аберрацией волнового фронта на субнанометровом уровне. С использованием комплекса разработан и создан проекционный объектив для нанолитографа с рабочей длиной волны на длине волны 13,5 нм. Создание комплекса открывает возможности изготовления в России элементов рентгеновской оптики для микроскопии и астрономии свехвысокого разрешения.
Н. Н. Салащенко
Е. Б. Клюенков,
Создан технологически-измерительный комплекс для изготовления и аттестации элементов изображающей (сферической и асферической) «рентгеновской» оптики с формой поверхности, выполненной с субнанометровой точностью. Для аттестации формы поверхности применяется интерферометр с дифракционной волной сравнения. На основе локального ионно-пучкового травления и вакуумного нанесения тонких пленок разработаны методы коррекции с субнанометровой точностью формы подложек для рентгенооптических элементов, изначально изготовленных с традиционной для оптической промышленностью точностью 20−100 нм. Оптимизация режимов позволяет проводить коррекцию формы без изменения микрошероховатости супергладких поверхностей. Разработанные методы измерений и коррекции формы сферических и асферических поверхностей и измерения волновых деформаций оптических систем позволяют проводить разработку объективов сверхвысокого разрешения.
Для создания и управления магнитным состоянием ферромагнитных наноструктур развиты методы нанолитографии и зондовой микроскопии, позволившие продемонстрировать эффективность использования системы ферромагнитных наночастиц как управляемого источника неоднородного магнитного поля, реализовать новые киральные распределения намагниченности в ферромагнитных наноструктурах и показать принципиальную возможность записи информации со сверхвысокой плотностью (~1011 бит/см2).
А. А. Фраерман
С.Н. Вдовичев,
Развитые методы создания и исследования магнитного состояния ферромагнитных наноструктур позволили:
Обнаружена генерация электромагнитных волн при вынужденном комбинационном рассеянии ИК излучения на электронных состояниях мелких доноров в кремнии (P, Sb, As, Bi). Стоксов сдвиг частоты излучения определяется разностью энергий основного 1s (A1) и возбужденного 1s (E) состояний 1s мультиплета и составляет 13,02 мэВ, 12,4мэВ, 22,44 мэВ и 40,53 мэВ для доноров P, Sb, As и Bi соответственно, отражая химический сдвиг энергии основного состояния. Показана возможность создания рамановского лазера терагерцового диапазона частот на мелких донорах в кремнии.
В.Н. Шастин
Р. Х. Жукавин,
Экспериментально показано, что внутрицентровое оптическое возбуждение мелких доноров пятой группы в кремнии (фосфор P, сурьма Sb, мышьяк As, висмут Bi) осуществляемое в ИК диапазоне (частоты 9−19 ТГц) может приводить к стимулированному излучению Стокса на частотах 4,6−9 ТГц. В процессе вынужденного комбинационного рассеяния света (ВКР) кулоновский центр переходит через виртуальное состояние из основного 1s (A1) в возбужденное 1s (E) состояние 1s мультиплета с последующей релаксацией в основное состояние, излучая акустические фононы при междолинных переходах TA-g (Si:P, Si: As) или LA-g (Si:As, Si: Bi). При этом энергия кванта излучения линейно перестраивается при изменении энергии кванта накачки, оказываясь всегда меньше последней на величину равную энергии перехода между состояниями 1s (A1) и 1s (E). Эта величина составляет 13,05 мэВ, 12,44 мэВ, 22,4 мэВ и 40,53 мэВ для доноров P, Sb, As, Bi соответственно, что отражает зависимость химического сдвига энергии основного состояния от атома примеси. Согласно измерениям, для стимулированного излучения стоксовой компоненты необходима плотность потока накачки I > 1023квант/см2 сек, и максимумы эффективности соответствуют условию резонансного/квазирезонансного возбуждения состояний p-типа на разрешенных переходах. Заметим, что подобный процесс ВКР с переходом в состояние 1s (T2) запрещен в силу симметрии распределения волновых функций электронных состояний по долинам зоны проводимости. Измерения проводились при температурах T= 5 K на образцах монокристаллического кремния с концентрацией доноров Nd@3×1015 см-3. Исследуемые образцы имели форму прямоугольного параллелепипеда размерами ~5x7x1 (5) мм3 и служили высокодобротными резонаторами для излучения Стокса. В качестве источника накачки использовался импульсный лазер на свободных электронах (FELIX, The Netherlands).
Научная ценность: впервые обнаружен эффект вынужденного комбинационного рассеяния света на примесных центрах в полупроводниках, который сопровождается усилением электромагнитных волн в терагерцовом диапазоне частот.
Практическая значимость: показана возможность создания лазера терагерцового диапазона частот на мелких донорах в кремнии, который не требует инверсной населенности состояний и может быть перестраиваемым по частоте изменением частоты оптической накачки.
В спектрах примесной фотопроводимости гетероструктур с квантовыми ямами, легированными мелкими примесями, экспериментально обнаружены резонансы Фано, обусловленные взаимодействием электронов и дырок с продольными оптическими фононами. Показано, что в квантовых ямах ширина резонанса Фано определяется в основном силой взаимодействия носителей с фононами. Продемонстрирована возможность локальной диагностики характеристик оптических фононов в квантовых ямах с помощью измерений резонанса Фано в спектрах примесной фотопроводимости.
В.Я. Алешкин
А.В. Антонов,
Обнаружены ассиметричные максимумы в спектрах примесной фотопроводимости квантовых ям, легированных мелкими акцепторами и мелкими донорами при энергиях кванта, соответствующих энергии оптического фонона. Аналогичные особенности спектров фотопроводимости были известны для объемных полупроводников. Эти особенности обусловлены специфическими резонансными состояниями (резонансами Фано), появляющимися благодаря взаимодействию примесных состояний с продольными оптическими фононами. Показано, что в GaAs квантовых ямах, легированных мелкими донорами, ширина резонансного пика в спектре фотопроводимости пика может в несколько раз превышать таковую в объемном n-GaAs. Обнаружено, что в квантовых ямах, легированных мелкими акцепторами, ширина резонансного в спектре фотопроводимости пика оказывается меньшей, чем в объемном полупроводнике p-типа. Показано, что в напряженных квантовых ямах положение резонанса в спектрах фотопроводимости смещается из-за изменения энергии оптических фононов, что открывает возможность использования измерения спектров фототока для изучения оптических фононов в квантовых ямах.
Экспериментально обнаружено существенное влияние одноосной деформации кремния на характеристики терагерцового стимулированного излучения мелких доноров (P, Sb, As, Bi) при их оптическом возбуждении. Это проявляется в переключении длины волны рабочих переходов (для As, Bi), в значительном уменьшении пороговой интенсивности накачки, и увеличении эффективности излучения (10 — 100 раз). Указанные изменения вызваны увеличением времени жизни на возбужденных примесных состояниях, благодаря подавлению рассеяния на междолинных фононах при относительном смещении долин в деформированном кристалле.
В.Н. Шастин
В.Н. Шастин,
H.-W. Hubers, S. G. Pavlov, U. Bottger, German Aerospace Center, (Institute of Planetary Research)
Экспериментально исследовано влияние одноосной деформации на характеристики терагерцового стимулированного излучения доноров пятой группы (фосфор P, сурьма Sb, висмут Bi, мышьяк As) в монокристаллическом кремнии при их возбуждении излучением (9−11 мкм) CO2 лазера. Измерения проводились на образцах с концентрацией доноров 3−5Ч1015см-3 при охлаждении их жидким гелием. Обнаружено, что одноосная деформация сжатия в направлении [001] для Si: P и Si: Sb приводит к уменьшению пороговой интенсивности накачки на порядок до значений 1 кват/см2, и максимум выходного излучения достигается при давлениях P~1 кбар с уменьшением до нуля при P>2,5 кбар. При этом частоты линий стимулированного излучения 180 см-1 в Si: P и 172 см-1 в Si: Sb не меняются. Такого же рода деформация Si: As или Si: Bi напротив вызывает скачкообразное изменение характеристик стимулированного излучения. Стимулированное излучение развивается на 2p-1s (T2, E) переходах с частотами 201 см-1 и 212 см-1 для As, а также 192 см-1 и 205 см-1 для Bi в кремнии без деформации и переключается на 2p0-1s (В2) переход с частотой 171 см-1 в As и 164 см-1 в Bi при давлениях соответственно Р > 0,5 кбар и Р > 1 кбар. Изменение линий генерации сопровождается уменьшением порога накачки в ~10 раз для висмута и до 100 раз в мышьяке приближаясь к ~1 кват/см2, а соответствующая зависимость интенсивности выходного ТГц излучения от давления имеет немонотонный характер. Подавление стимулированного излучения для As и Bi центров наблюдается при Р > 3,5−4,5 кбар. Уменьшение порога накачки свидетельствует о значительном возрастании коэффициента усиления, который по оценкам достигает значения ~3−5 см-1.
Перечисленные особенности объясняются изменениями в спектре энергий и структуре волновых функций состояний доноров при деформационном смещении долин зоны проводимости. Положительным результатом является увеличение времени жизни рабочих состояний, вследствие подавления междолинного рассеяния на фононах f-типа, и повышение эффективности их накачки с уменьшением кратности вырождения. Подавление эффектов стимулированного излучения доноров при больших давлениях сжатия связано с увеличением времен жизни нижних состояний рабочего перехода из-за выхода их из резонанса взаимодействия с междолинными фононами g типа.
Создан новый тип светоизлучающего диода на основе эпитаксиального Si: Er с неоднородным легированием области пространственного заряда, позволившим пространственно разнести в диоде туннельную генерацию носителей заряда и ударное возбуждение ионов эрбия. Благодаря этому преодолена проблема нестабильности (шнурования) тока в условиях развития лавинного пробоя, существенно увеличена длина области возбуждения ионов эрбия горячими электронами и мощность излучения на длине волны 1.54 mm. Светоизлучающий диод изготовлен полностью по кремниевым технологиям.
В.Б Шмагин
Д.Ю. Ремизов,
По результатам выполненных ранее исследований, включая численное моделирование ударного возбуждения ионов эрбия горячими носителями, разогреваемыми в электрическом поле обратно смещенного p/n-перехода, предложен новый тип диодных светоизлучающих структур на основе кремния, легированного эрбием, — диодные туннельно-пролетные структуры с расширенной областью пространственного заряда. Идея структуры состоит в реализации более сложного профиля легирования и пространственном разнесении областей туннельной генерации носителей заряда (область сильного поля) и ударного возбуждения ионов эрбия (область слабого поля).
Электрическое поле в области туннельной генерации носителей заряда должно быть достаточно сильным, чтобы инициировать туннельный пробой p+/n+-перехода. Это достигается легированием области n+-Si до концентрации 2•1018 см-3. Ширина области n+-Si при таком уровне легирования должна быть достаточно малой (~20 нм). Электрическое поле в области ударного возбуждения ионов Er3+ должно быть относительно слабым (~3•105 В/см при уровне легирования слоя n-Si: Er ND ~ 1•1016 см-3), чтобы не допустить формирования лавины. Его роль — компенсация потерь, связанных с рассеянием носителей заряда на тепловых колебаниях решетки. Такая конфигурация поля позволяет заметно расширить ОПЗ структуры (до 0,5−1,0 мкм), не переходя в режим лавинного пробоя p/n-перехода, для которого характерны неоднородное распределение плотности тока накачки по площади p/n-перехода и вызываемое этим заметное уменьшение интенсивности эрбиевой ЭЛ.
При той же эффективности возбуждения туннельно-пролетные структуры демонстрируют более интенсивную люминесценцию в диапазоне l ~ 1.5 mm, по сравнению с обычными диодными структурами с постоянным уровнем легирования базы. При комнатной температуре мощность, излучаемая в сферу, составила P ~ 2 мкВт при токе накачки ~ 500 мА, внешняя квантовая эффективность ~ 10-5. Методика изготовления туннельно-пролетных структур на основе Si: Er совместима с основной кремниевой технологией.
В эпитаксиальных Si: Er слоях при токовом возбуждении люминесценции обнаружена задержанная, включающаяся коротким импульсом обратного смещения и обусловленная ударным возбуждением эрбия запасенными в ловушках электронами. Эффективность возбуждения такой люминесценции более чем на два порядка превосходит соответствующее значение для ударного и инжекционного механизмов возбуждения Si: Er в p-n-переходе, а время жизни электронов в ловушках достигает 100 мс. Предложено применение диодов со встроенным Si: Er слоем для элементов электрооптической памяти.
Б.А. Андреев,
W. Jantsch — университет Линца, Австрия
При исследовании диодных светоизлучающих структур Si: Er/Si авторами проекта был обнаружен эффект электрооптического преобразования с долговременной памятью о протекании тока через p-n-переход — «запасённая» электролюминесценция. Эффект наблюдался на выращенных методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии (СЛМЭ) n+Si/n-Si/n-Si: Er/n-Si/p+-Si структурах с активным наноразмерным слоем, позиционированным в области пространственного заряда. Через длительное время после окончания возбуждающего импульса прямого смещения наблюдалась ЭЛ ионов Er3+ при приложении к диодной структуре импульса обратного смещения p-n-перехода при температурах T<120K. Очень важно, что во всех экспериментах: 1) напряжение импульсов обратного смещения, вызывающих «запасенную» ЭЛ, лежало в допробойной области и эффект излучения нельзя объяснить сигналом ЭЛ в режиме пробоя обратно смещенного p-n-перехода; 2) «запасенная» ЭЛ ионов Er3+ наблюдалась только в том случае, если импульсу обратного смещения предшествовало положительное смещение p-n-перехода. Эффект так же наблюдается если вместо электрического импульса прямого смещения подсвечивать образец оптическими импульсами с энергией кванта больше ширины запрещённой зоны кремния.
Можно предположить, что эффект «памяти», характерный для электрооптического преобразования, связан с наличием в структуре глубоких ловушек для свободных носителей. Во время импульса прямого смещения (или при подсвете оптическим импульсом) происходит заполнение ловушек носителями. При отрицательном смещении носители освобождаются из ловушек и могут возбудить ионы эрбия ударным или иным способом, если внешнее поле достаточно велико. У нас нет данных, которые позволили бы определить тип носителей, участвующих в этом процессе, но большая интенсивность «запасенной» ЭЛ свидетельствует об участии электронов в ударной ионизации, поскольку ударное возбуждение иона Er3+ электроном на три порядка более эффективно, чем дыркой. Очень важно, что оцененная эффективность возбуждения «запасённой» ЭЛ иона Er на два порядка превышает как эффективность ударного возбуждения иона Er при пробое p-n-перехода в режиме обратного смещения, так и эффективность инжекционного механизма возбуждения в режиме прямого смещения p-n-перехода. Эффект «запасённой» ЭЛ может быть положен в основу элемента памяти Si: Er/Si, запись информации в котором будет осуществляться электрическими или оптическими импульсами, а вывод информации оптическими на длине волны 1,54 мкм.
Предложен механизм спектрального потока квазичастиц и перекачки заряда в джозефсоновских контактах типа сверхпроводник/ изолятор/ нормальный металл/ изолятор/ сверхпроводник (SINIS) с адиабатически зависящим от времени потенциалом N области. Показана возможность существования гигантских ступенек Шапиро на вольт — амперной характеристике с амплитудой, существенно превосходящей значение критического тока контакта.
А.С. Мельников — ИФМ РАН
Теоретически исследованы транспортные свойства джозефсоновских контактов типа сверхпроводник — изолятор — нормальный металл — изолятор — сверхпроводник (SINIS) с адиабатически перестраиваемым во времени спектром локализованных электронных состояний. Адиабатическая перестройка спектра может быть реализована путем приложения нестационарного управляющего напряжения к нормальному участку системы. Такое управляющее напряжение на N затворе дает возможность изменять величины минищелей в спектре и, следовательно, влиять на вероятность туннелирования Ландау-Зинера между минизонами. В режиме заданного напряжения на сверхпроводящих электродах исследован резонансный механизм спектрального потока квазичастиц и стимуляции среднего по времени электрического тока через контакт, связанный с последовательным закрытием минищелей в спектре при изменении напряжения на затворе. Показана возможность существования гигантских ступенек Шапиро на вольт — амперной характеристике с амплитудой, существенно превосходящей значение критического тока контакта.
Предложен и реализован новый тип многопериодных светодиодных структур на основе Si: Er. Диодные структуры сформированы методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии и представляют собой серию последовательно включенных p-n-n+ переходов с примесью эрбия, позиционированной в n слое. Ударное возбуждение редкоземельной примеси в p-n переходе происходит в условиях пробоя. Пропорционально числу периодов увеличивается интенсивность излучения ионов эрбия на длине волны 1,54 мкм. Достигнутые значения мощности достаточны для оптоэлектронных соединений кремниевых интегральных схем.
М.В. Степихова,
В работе предложен новый тип светоизлучающих диодных структур на основе кремния, легированного эрбием, реализующих принцип ударного возбуждения редкоземельной примеси. Рассмотрены многослойные периодические диодные структуры, представляющие собой серию последовательно включенных p±n-n+ переходов с примесью эрбия, позиционированной в n слое. Приводятся результаты теоретического анализа структур этого типа, даны критические параметры слоев, позволяющие реализовать многодиодный режим работы в условиях пробоя p-n перехода. Впервые периодические диодные структуры выращены методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии, реализованы структуры с пятью p±n-n+ периодами и толщинами слоев, варьируемыми в диапазоне от 8 до 40 нм. Экспериментально показано, что формирование многодиодных структур p±n-n+… p±n-n+ типа позволяет значительно увеличить излучающий объем и, как следствие, люминесцентную эффективность структур Si: Er. Показано, в структурах данного типа имеет место значительное увеличение сигнала электролюминесценции, пропорциональное полной толщине легированных эрбием слоев активных диодных пар. Обнаружен эффект влияния встроенных прямосмещенных p±n+ переходов на величину пробоя активных диодных пар, проявляющийся в уменьшения напряжения пробоя и описанный в представлении многодиодной структуры серией p-n-p и n-p-n транзисторов. Приводимые экспериментальные результаты получены при комнатной температуре.
Построена теория эффектов размерного квантования в спектрах квазичастиц в мезоскопических сверхпроводниках. Показано, что следствием конкуренции геометрического и андреевского механизмов квантования являются мезоскопические осцилляции энергетических уровней, амплитуда которых может существенно превышать расстояние между андреевскими уровнями в объемных образцах. Осцилляции в спектрах локализованных андреевских состояний в сверхпроводящих наноконтактах приводят к осциллирующей зависимости критического джозефсоновского тока, переносимого этими состояниями, от размера системы, а для одноквантового вихря в мезоскопическом цилиндре осцилляции уровней вызывают подавление минищели в спектре квазичастиц.
А.С. Мельников,
Проведены теоретические исследования влияния размерного квантования на свойства андреевских уровней квазичастиц в мезоскопических сверхпроводниках (с размерами порядка нескольких длин когерентности). При расчетах спектра квазичастичных возбуждений в таких системах, необходимо учитывать интерференцию волн, возникающую за счет нормального отражения от поверхности сверхпроводника. Показано, что конкуренция геометрического и андреевского механизмов квантования приводит к мезоскопическим осцилляциям энергетических уровней при изменении импульса Ферми или размера образца. Амплитуда осцилляций может существенно превышать расстояние между андреевскими уровнями в объемных образцах. Сформулированы общие условия квантования для замкнутых траекторий квазичастиц в присутствие нормального отражения на границах образца. Рассмотрены два конкретных примера мезоскопических систем:
Рассчитаны амплитуда и поляризация нелинейного отклика сверхпроводника со смешанным d и s параметром порядка на электромагнитное излучение СВЧ диапазона. Показано, что переход между фазами с различной симметрией параметра порядка проявляется в характерной особенности нелинейности, в то время как линейный отклик оказывается нечувствительным к подобным фазовым переходам.
В.В. Курин,
Проведено теоретическое исследование процессов генерации третьей гармоники при отражении электромагнитного излучения от тонкой пленки сверхпроводника со смешанным d и s параметром порядка. В рамках теории Гинзбурга-Ландау для сверхпроводников с двухкомпонентным параметром порядка вычислена зависимость интенсивности и поляризации третьей гармоники от температуры, амплитуды и поляризации падающей волны. Проанализировано поведение нелинейного отклика в окрестности фазовых переходов между фазами с различной симметрией параметра порядка. В частности, показано, что в окрестности температуры, соответствующей фазовому переходу d-d+s интенсивность третьей гармоники значительно возрастает и неаналитична по амплитуде падающей волны, в то время как при переходе d-d+is особенность нелинейного отклика отсутствует. Показано, что линейный коэффициент отражения оказывается практически нечувствительным к этим фазовым переходам. Кроме того, показано, что зависимость амплитуды нелинейного отклика от поляризации падающей волны обладает той же симметрией, что и параметр порядка.
Предсказаны качественно новые эффекты взаимодействия резонансов Фано в наноканалах и нанокольцах с встроенными в них квантовыми точками. Впервые обнаружено, что в таких системах путем изменения параметров системы можно осуществить столкновение диполей Фано (пар полюс-пик амплитуды рассеяния), а результатом такого столкновения является возникновение нового объекта (квазичастицы) — квадруполя Фано. Изучено периодическое движение нулей и полюсов квадруполя в магнитном поле, которое позволяет управлять кондактансом системы.
А.М. Сатанин (ИФМ РАН), R. Casby, E. Hedin, Y. S. Joe (Department of Physics and Astronomy, Ball State University, USA), G. Klimeck (School of Electrical and Computer Engineering, Purdue University, USA)
Впервые экспериментально осуществлено управление знаком завихренности в процессе перехода из однородного в одновихревое состояние ферромагнитных наночастиц, обусловленное нарушением киральной симметрии распределения намагниченности в неоднородном поле зонда магнитно-силового микроскопа.
В.Л. Миронов,
Проведены экспериментальные исследования индуцированных зондом магнитно-силового микроскопа эффектов перемагничивания эллиптических наночастиц Со. Обнаружены обратимые переходы между однородным и вихревым состояниями намагниченности. Показана возможность управления направлением завихренности в таких частицах в процессе перехода из однородного в одновихревое состояние, обусловленная нарушением киральной симметрии распределения намагниченности частиц в неоднородном поле зонда.
Теоретически предсказана возможность существования эффекта сверхизлучения при движении вихрей в слоистых высокотемпературных сверхпроводниках с внутренним эффектом Джозефсона, встроенных в волноводную систему с замедленной волной.
В.В. Курин, А. В. Чигинев
Теоретически исследованы процессы излучения электромагнитных волн джозефсоновскими вихрями, движущимися в слоистых высокотемпературных сверхпроводниках с внутренним эффектом Джозефсона встроенных во внешние волноведущие системы. Путем прямого численного моделирования изучены последовательности конфигурационных фазовых переходов в движущихся вихревых решетках в зависимости от тока накачки, внешнего магнитного поля и величины магнитной связи между слоями. Обнаружено, что в условиях, когда скорость электромагнитной волны во внешней электродинамической системе наименьшая по сравнению со скоростями Свихарта в многослойной сверхпроводящей структуре, при превышении некоторого критического тока происходит фазовый переход в режим сверхизлучения, характеризуемого полностью синфазным движением вихрей и интенсивностью, пропорциональной квадрату числа джозефсоновских переходов. Показана возможность создания эффективных джозефсоновских генераторов, использующих обнаруженный эффект сверхизлучения.
В эпитаксиальных структурах Si: Er обнаружен новый оптически активный центр, люминесцирующий в области 1,54 мкм. Центр характеризуется серией из восьми линий, спектральная ширина наиболее интенсивной из которых (6502 см -1) не превышает 10 мкэВ. Выявлены парамагнитная природа оптически активного центра и его кристаллографическая орторомбическая симметрия I (C2v) из эффекта Зеемана, впервые наблюденного в кремнии, легированном эрбием. Развитая технология формирования преимущественно одного оптически активного центра иона Er3+ с предельно узкой линией люминесценции делает эпитаксиальные Si: Er структуры перспективными для оптоэлектронных приложений.
З.Ф. Красильник
Б.А. Андреев,
В.П. Кузнецов — НИФТИ ННГУ
N.Q. Vinh, T. Gregorkiewicz — Van der Waals-Zeeman Institute, Amsterdam
H.Przybylinska — Institute of Physics, Polish Academy of Sciences
Определена микроскопическая структура оптически активного центра, впервые обнаруженного в структурах Si: Er, выращенных методом сублимационной молекулярно- пучковой эпитаксии. В спектре фотолюминесценции в области 1,5 мкм центр характеризуется серией из восьми линий, спектральная ширина наиболее интенсивной из которых (6502 см-1) не превышает 10 мкэВ. Впервые наблюдался и был исследован эффект Зеемана в спектрах фотолюминесценции в магнитных полях до 5,5 Т. Показана парамагнитная природа оптически активного центра. Установлено, что симметрия центра является орторомбической I (C2v) с компонентами эффективного g-тензора g ~ 18.4 и g^ ~ 0 в основном состоянии. Малая величина компоненты g^ ~ 0 оптически активного центра объясняет причину отсутствия возможности наблюдения ЭПР.
Условия формирования в эпитаксиальных структурах Si: Er преимущественно одного оптически активного центра иона Er3+ с предельно узкими линиями в люминесцентном спектре характеризуют материал как перспективный для оптоэлектронных приложений.
Показана возможность наблюдения в нелинейной среде с аномальной дисперсией обращенного эффекта Доплера. Построена теория распространения видеоимпульсов в такой среде с преобразованием энергии видеоимпульсов в высокочастотный сигнал. Преобразование энергии может составлять до 60−80%, а электронная перестройка частоты заполнения радиоимпульса до 20%. Основные выводы теории подтверждены наблюдением обращенного эффекта Доплера в экспериментах по генерации мощных (порядка 100 МВт) радиоимпульсов с частотами заполнения о 200 до 1000 МГц в линиях передач с ферритом.
А.М. Белянцев,
Построена теория и проведено численное моделирование нестационарного процесса прямого преобразования видеоимпульса в радиоимпульс при его распространении в линии передачи (ЛП) с дисперсией и с нелинейностью, длительное время сохраняющей насыщенное состояние. Эффект основан на возбуждении фронтом ударной электромагнитной волны синхронной с ним прямой или обратной волны. Энергетическая эффективность преобразования видеоимпульса в радиоимпульс в линии передачи с ферритом (мощные радиоимпульсы в диапазоне от десятков мегагерц до нескольких гигагерц) и в линии передачи на основе асимметричных многослойных гетероструктур (диапазон порядка 100 ГГц) составляет 60−80%. Основные выводы теории подтверждены в экспериментах с линиями передачи, заполненными ферритами при генерации мощных (порядка 100 МВт) радиоимпульсов с частотами заполнения от 200 до 1000 МГц. В нелинейных электродинамических системах с прямыми и обратными волнами при насыщенной нелинейности показана возможность генерации радиоимпульсов с двухчастотным заполнением и реализация обращенного эффекта Доплера. В последнем случае фронт ударной электромагнитной волны одновременно играет роль и «источника излучения» и «бегущего зеркала», от которого отражается синхронная обратная волна (после отражения от входа линии передачи). Экспериментально обращенный эффект Доплера (увеличение частоты) наблюдался при отражении обратной волны в линиях передачи с ферритом. (N.Seddon and T. Bearpark «Observation of the Inverse Doppler Effect», Science, v. 302, 28, pp.1537−1540, November 2003).
В рамках теории Гинзбурга — Ландау рассчитана зависимость критической температуры Tc (H) гибридных систем сверхпроводник/ферромагнетик с доменной структурой. Показано, что в таких системах возможно формирование сверхпроводящих каналов и появление особенностей на зависимости Tc (H) (возвратная сверхпроводимость и осцилляции Tc).
А.Ю. Аладышкин,
А.И. Буздин — Universite' Bordeaux 1, France
Предлагается новый подход к созданию мезоскопических сверхпроводящих каналов, основанный на особенностях поведения сверхпроводников в неоднородном магнитном поле. Неоднородное магнитное поле приводит к формированию сверхпроводящих каналов вблизи нулей или минимумов компоненты полного магнитного поля, перпендикулярной пленке. При этом положением каналов и их формой можно управлять, изменяя внешнее поле H. Выполнен расчет фазовых диаграмм на плоскости магнитное поле — температура гибридных систем сверхпроводник/ферромагнетик с доменной структурой и сверхпроводящих пленок с ансамблем магнитных частиц. Для двумерного распределения намагниченности и для систем, состоящих из магнитной частицы и сверхпроводящей пленки, предсказаны осцилляции Tc (H), связанные с квантованием флуксоида внутри кольцеобразного сверхпроводящего зародыша (аналог эффекта Литтла — Паркса).
Впервые в мире разработана методика изготовления четырехуголковых отражающих систем на многослойных структурах для фокусировки излучения квазиточечных источников жесткого рентгеновского излучения. Светосила таких систем в четыре раза превосходит светосилу наиболее эффективных на сегодняшний день симметричных скрещенных систем и в 16 раз светосилу «классических» систем Киркпатрика-Байеза.
А.Д. Ахсахалян,
Начиная с работ Киркпатрика-Байеза, для фокусировки излучения квазиточечного рентгеновского источника используются скрещенные системы из цилиндрических зеркал с взаимно перпендикулярными образующими, осуществляющих фокусировку излучения во взаимно перпендикулярных направлениях. Наибольшей светосилой обладают симметричные системы, в которых параметры направляющих и координаты начала и конца зеркал совпадают. Такие системы выпускаются фирмой «Osmic» в качестве коммерческого продукта. Дальнейшего увеличения светосилы можно добиться в многоуголковых системах, состоящих из нескольких отражающих углов, симметрично расположенных относительно оптической оси. Экспериментально многоуголковые системы нигде в мире не изготавливались (но запатентованы «Osmic»).
В ИФМ разработан метод изготовления четырехуголковой системы, которую мы назвали квадраэллиптическим отражателем (КО). Система состоит из четырех одинаковых многослойных зеркал, имеющих форму эллиптического цилиндра. Отдельные зеркала изготавливались по ранее опубликованным методикам и затем объединялись в общую сборку. Для иллюстрации возможностей разработанной методики изготовления был изготовлен оптимизированный КО на длину волны lCuKa =0.154 нм с угловой апертурой системы DW = 6×10-4 стерадиан.
При изучении фокусирующих свойств системы в качестве источника использовалась микрофокусная рентгеновская трубка прострельного типа БСВ-1 с размером фокусного пятна d = 95 мкм. Измеренная интенсивность во втором фокусе оказалась в 100 раз больше интенсивности прямого пучка при практически расчетном размере изображения источника D «300 мкм.
Изготовлены торцевые джозефсоновские переходы Nb/SiNx/Nb с критическим током в диапазоне 10−1000 mA, нормальным сопротивлением 1−10 Ом и рекордно малой емкостью 10-15-10-16 Ф. Емкость уменьшается благодаря торцевой, непланарной геометрии перехода. Переходы с подобными свойствами могут быть использованы в СВЧ технике, для исследований субмикронных магнитных структур и в элементах квантовой логики.
С.Н. Вдовичев,
В одно- и многослойных гетероструктурах с GeSi наноостровками получена фотолюминесценция в области 1,5 мкм при комнатной температуре. Механизм длинноволновой фотолюминесценции GeSi наноостровков связан с излучательной рекомбинацией электронов в кремнии и дырок в островках, локализованных по разные стороны от гетерограницы II типа. Подтверждением этому является впервые наблюденный сигнал фотолюминесценции от наноостровков на длине волны l ~ 2 мкм, что соответствует энергии, значительно меньшей ширины запрещенной зоны германия.
З.Ф. Красильник
Н.В. Востоков,
Исследована зависимость спектров фотолюминесценции структур с GeSi/Si (001) самоорганизующимися островками от температуры роста. Показано, что смещение пика фотолюминесценции от островков в область меньших энергий при понижении температуры роста связано с подавлением диффузии Si в островки и увеличением доли Ge в них. Впервые обнаружен сигнал фотолюминесценции от GeSi островков в области энергий вплоть до 0.6 эВ, что значительно меньше ширины запрещенной зоны объемного Ge. С учетом реального состава и размеров островков положение пика фотолюминесценции от островков хорошо описывается моделью не прямого в реальном пространстве оптического перехода между дырками, локализованными в GeSi островках, и электронами, находящимися в Si на гетерогранице II-типа с островком. Получены одно и многослойные структуры с GeSi/Si (001) самоорганизующимися наноостровками, имеющими сигнал фотолюминесценции в области 1.3 е2 mм при комнатной температуре.
Разработан метод учета нелокальности взаимодействия зонд-поверхность в сканирующей туннельной микроскопии, что позволило впервые восстановить тонкую структуру поверхностной плотности электронных состояний образцов с субатомным разрешением (~0,4 A).
К.П. Гайкович
К.П. Гайкович,
Двумерное распределение (изображение) туннельного тока, измеренное в режиме z=const, может быть представлено сверткой локальной плотности электронных состояний поверхности образца и передаточной функции зонда, сглаживающее действие которой ограничивает разрешение СТМ масштабами ~2−3 A при точности позиционирования зонда ~0,1 A. Для определения истинного распределения из решения уравнения свертки использовался метод обобщенной невязки Тихонова с передаточной функцией взаимодействующего атома зонда (J.Tersoff), имеющей характерный масштаб осреднения, близкий к размеру отдельного атома на СТМ изображении.
Развитый метод апробирован на образцах пиролитического графита, о котором известно, что структура распределения плотности электронных состояний поверхности имеет более тонкие детали, чем масштаб осреднения, определяемый передаточной функцией взаимодействующего атома зонда. Кроме того, СТМ изображения пиролитического графита имеют ту специфику, что туннельный ток в местах расположения атомов, имеющих ближайший соседний атом во втором слое, существенно меньше, чем для мест атомов, под которыми атом углерода во втором слое отсутствует, то есть только половина атомов решетки отчетливо видна в исходных СТМ изображениях, а атомы первого типа выглядят как тени между атомами второго типа. В данной работе мы восстановили изображение истинной структуры решетки графита, на которой отчетливо видны не только атомы обоих упомянутых типов, но и более тонкие, субатомные детали электронной конфигурации. Эта тонкая структура скрыта в исходном СТМ изображении из-за сглаживания реальной картины на масштабе размера взаимодействующего атома зонда.
Н.Н. Салащенко
С.С. Андреев,
Основой схем проекционной литографии 13 нм диапазона являются многослойные зеркала. Для обеспечения требуемой скорости засветки резиста (до 10 см2/с) зеркала должны иметь коэффициенты отражения на рабочей длине волны до 70%. Для реализации пространственного разрешения («30 нм) многослойные покрытия должны наноситься на подложки с асферической формой поверхности, изготовленные с отклонением формы поверхности от расчетной не хуже 0.2−0.3 нм при высоте неровностей поверхности не больше 0.2 нм. При этом многослойные покрытия не должны создавать механических напряжений в подложках, чтобы не увеличить отклонение формы поверхности.
Механические напряжения, в принципе, всегда можно компенсировать в самой «рабочей» многослойной структуре, но при этом не выполняется условие получения максимальной отражательной способности от такой структуры.
Еще одна проблема связана с тем, что все многослойные оптические элементы схемы с различной формой поверхностей и строго заданным распределением толщины периодов по каждой поверхности должны иметь одинаковую (с точностью «0.05 нм) резонансную длину волны. Поэтому крайне желательно иметь технологию, обеспечивающую возможность реставрации чрезвычайно дорогих подложек после каждого неудачного нанесения многослойной структуры без изменения исходных формы и гладкости поверхности. Предлагаемый научный результат позволяет оптимизировать технологию нанесения многослойных структур с коэффициентами отражения до 70%, обеспечить путем нанесения одной буферной структуры возможности компенсации внутренних механических напряжений в многослойных структурах без уменьшения их отражательной способности и реставрации подложек без ухудшения исходных формы и гладкости поверхности подложки.
На основе пленок высокотемпературного сверхпроводника YBaCuO разработан и изготовлен механически перестраиваемый высокодобротный контур ВЧ диапазона. Контур имеет рекордный диапазон перестройки резонансной частоты (30МГц — 8МГц) и рекордную во всем диапазоне собственную добротность 110'000 — 180'000 при Т = 77 К.
С.А. Павлов
Д.Г. Волгунов,
Максимальные значения добротности контуров в ВЧ диапазоне, приводимые в литературе составляют около 40'000. Использование ферроэлектриков не дает возможности перестраивать резонансную частоту в широком диапазоне, кроме того, их применение снижает добротность сверхпроводящих устройств. В разработанном нами перестраиваемом контуре резонансная частота перестраивается за счет изменения расстояния между подложками. Чтобы реализовать возможности контура по перестройке, необходимо обеспечить точное и жесткое позиционирование подложек с точностью в единицы ангстрем (крутизна перестройки достигает 1Гц/нм). Подложки перемещаются пьезодвигателем, работающим в шаговом и аналоговом режимах при азотной температуре.
Обычно качество пленок характеризуется величиной поверхностного сопротивления на частоте 10ГГц и затем пересчитывается на другие частоты по закону Rs~w2 (двухжидкостная модель). Мы не имели возможности измерить поверхностное сопротивление непосредственно на пленках, из которых изготавливаются контуры, но на основании предыдущих измерений можно с большой вероятностью считать, что его величина порядка 1 мОм. Если воспользоваться этим значением и по закону Rs~w2 вычислить сопротивление катушки индуктивности, то добротность контура должна составить ~ 107, на частоте 30МГц и расти с уменьшением частоты. Однако экспериментальная зависимость добротности от частоты (расстояния между подложками, составляющими перестраиваемый контур) имеет максимум, а значения добротности существенно ниже рассчитанных по двухжидкостной модели. Важно отметить, что зависимость снята в линейном режиме. Полная емкость контура включает межвитковые емкости одиночных контуров и емкость воздушного зазора, Можно полагать, что добротность на максимальной частоте определяется потерями в подложках. Поскольку емкость воздушного зазора растет при сближении подложек, то растет и добротность полной емкости контура. Этот эффект хорошо объясняет высокочастотный участок зависимости добротности от частоты. На низкочастотном участке добротность падает с уменьшением частоты, а ход кривой соответствует наличию в контуре последовательно включенного постоянного сопротивления. Проведенные измерения величины критического тока через катушки индуктивности показывают, что это не может быть сопротивление, вызванное наличием в полоске нормального участка. На наш взгляд механизм, объясняющий потери на низкочастотном участке связан с движением вихрей. например запинингованные вихри на частотах ниже частоты депининга дают не зависящее от частоты сопротивление.
На основе кремниевых слоев, селективно легированных эрбием, созданы светоизлучающие диодные структуры с интенсивной электролюминесценцией иона Er3+ на длине волны 1,54 мкм в интервале температур 77−300 К. Интенсивность люминесценции более чем на порядок превышает таковую в однородно легированных структурах. В диодах с двумя p-n-переходами, содержащими слои, сильно легированные эрбием и бором, одновременно с люминесценцией эрбия при комнатной температуре получено связанное с межзонной рекомбинацией в кремнии интенсивное излучение на длине волны 1,2 мкм.
З.Ф. Красильник
Б.А. Андреев,
Методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии (СМЛЭ) с двумя типами сублимирующих источников (поликристаллическим источником Si: Er и с металлическим источником Er) получены высокоэффективные светоизлучающие диодные структуры Si: Er/Si для спектрального диапазона 1.54 мкм, оптимального для волоконно-оптических систем связи. Интенсивная электролюминесценция, связанная с внутрицентровым переходом 4I13/2→4I15/2 иона Er3+ наблюдалась в режиме обратного смещения в широком интервале температур 4.2 — 300 К при слабом температурном гашении для двух типов пробоя: лавинный пробой в структурах с относительно низким уровнем легирования и туннельный пробой в структурах с концентрацией носителей в активной области (1−2)1018 см-3. В режиме туннельного пробоя наблюдался практически линейный рост интенсивности электролюминесценции с увеличением плотности тока накачки до 12 А/см2. В случае лавинного пробоя насыщение люминесценции наблюдалось при плотности тока 2 А/см2. Экспериментальное значение произведения эффективного сечения возбуждения t на время жизни иона эрбия в возбужденном состоянии tst = 2,7 10-19 см2 с, полученное для диодов с лавинным пробоем, показывает высокую эффективность возбуждения электролюминесценции в разработанных эпитаксиальных структурах. В структуре с двумя p-n-переходами, содержащими области, легированные бором (p-Si) и эрбием (n-Si) одновременно с внутрицентровой люминесценцией иона Er3+ на длине волны 1,54 мкм, наблюдалось интенсивное излучение на длине волны 1,2 мкм при комнатной температуре, связанное с межзонной рекомбинацией в кремнии. Существенное (до порядка величины) увеличение квантовой эффективности электролюминесценции (в режиме прямого смещения) и фотолюминесценции при низких температурах наблюдалось в многослойных селективно легированных структурах с толщиной легированных слоев от 2 до нескольких десятков нанометров, разделенных «чистым» кремнием, что связано с уменьшением безызлучательной рекомбинации в нелегированных слоях. Получение таких структур является преимуществом СМЛЭ по сравнению с широко применяемым методом ионной имплантации.
Рассчитана кривая намагничивания мезоскопических сверхпроводящих образцов квадратной формы во всем диапазоне изменения магнитного поля. Вычислена плотность состояний в многоквантовых вихрях и вихревых молекулах. Вычислена проводимость образца вдоль магнитного поля, определяемая как резонансным, так и нерезонансным туннелированием через электронные состояния в корах вихрей. Получаемая ступенчатая и/или осциллирующая зависимость проводимости от магнитного поля позволяет рассматривать мезоскопические сверхпроводники как квантовые переключатели, где роль управляющего напряжения играет магнитное поле.
А.С. Мельников
П.П. Вышеславцев,
V.M. Vinokur — Argonne National Laboratory (USA)
Работа посвящена теоретическому исследованию свойств смешанного состояния в мезоскопических сверхпроводниках, размер которых составляет несколько длин когерентности. Экспериментальные и теоретические исследования таких систем указывают на наличие целого ряда фазовых переходов в магнитном поле, связанных как с изменением числа вихрей в образце, так и с перестройкой вихревых конфигураций. Проведенные нами исследования влияния геометрии образцов на структуру вихревых состояний представляются важными для интерпретации фазовой диаграммы реальных систем. Транспортные измерения (в частности с использованием СТМ) могли бы предоставить уникальную информацию о свойствах различных вихревых фаз. Таким образом, проведенные нами исследования электронной структуры, когерентного транспорта в вихревом состоянии мезоскопических образцов представляются весьма актуальными.
Структура вихревых состояний в мезоскопических сверхпроводниках квадратной формы исследовалась нами с помощью численного моделирования нестационарных уравнений Гинзбурга-Ландау. Исследованы различные вихревые состояния (изолированные вихри, вихревые молекулы, многоквантовые вихри) и рассчитана кривая намагничивания. Показано, что ряд особенностей на кривой намагничивания связан с распадом вихревых молекул и многоквантовых вихрей. Показано также, что устойчивость вихревой конфигурации, образованной вихрями и антивихрями сильно зависит от нарушений симметрии, вызванными наличием малых дефектов.
В рамках теории Боголюбова-де Жена проанализирована электронная структура и плотность состояний для различных типов вихревых структур. Проанализирован как резонансный вклад в транспорт связанный с наличием квантованных уровней в вихре, так и нерезонансный механизм туннелирования через вихрь. Показана возможность управления когерентным транспортом через образец посредством изменения числа флуксоидов и их конфигурации. Таким образом, мезоскопические образцы с малым числом вихрей представляют собой новый тип магнито-чувствительных андреевских волноводов. Проводимость образца в направлении магнитного поля определяется коэффициентом прозрачности вихревых состояний (многоквантовых вихрей и вихревых молекул), образующих квантовые каналы. Коэффициент прохождения каждого канала определяется процессами андреевского и нормального отражения от коров вихрей. Эти эффекты приводят к ступенчатой и/или осциллирующей зависимости проводимости от магнитного поля. Таким образом, можно рассматривать мезоскопические сверхпроводники как квантовые переключатели, в которых роль управляющего напряжения играет магнитное поле.